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產品詳情
參數
應用領域
設備可完成光電倍增管高溫真空除氣、陰極激活、陰極轉移、MCP清刷、銦封等多道關鍵制備工序，是多種運動方式同時存在的復雜系統(tǒng)。主要應用于中微子探測試驗、高能物理探測和單光子探測領域。
技術性能：
1、 極限真空：5x10-6Pa，工作真空：5x10-5Pa；
2、 除氣加熱溫度：400℃，溫度均勻性：±2.5℃；
3、 陰極組件垂直運動速度：0-500mm/min，重復定位精度：±1.5mm；
4、 MCP組件垂直運動速度：0-500mm/min，重復定位精度：±1.5mm；
5、 電子槍組件平移運動速度：0-500mm/min，重復定位精度：±1.5mm；
6、 玻殼旋轉速度0-3rpm，定位精度0.02°；
7、 銦封頂升力0-100N。
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立式中高溫集熱管鍍膜設備
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